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當前精密制造產(chǎn)業(yè)全面進入微納精度升級階段，電子設備、智能工控、精密檢測與半導體裝置的裝配結(jié)構(gòu)持續(xù)微型化，對間隙調(diào)平、密封緩沖、導電定位的超薄墊片精度要求達到微米級標準。傳統(tǒng)沖壓、激光切割工藝加工超薄墊片，普遍存在板材拉伸形變、邊緣毛刺、厚度不均、殘余應力集中、微結(jié)構(gòu)失真等問題，難以滿足高精度設備長期穩(wěn)定運行的工況需求。微米級超薄墊片采用純化學選擇性刻蝕工藝一體成型，無機械外力接觸、無高溫熱損傷，具

0.05金屬墊片采用精密化學刻蝕工藝一體成型，摒棄機械外力加工模式，具備板面平整、厚度均勻、無應力形變、邊緣垂直光滑、尺寸精度高的核心優(yōu)勢，能夠完美適配各類設備微小間隙裝配需求。

0.04銅墊片采用化學蝕刻一體成型工藝，全程無機械擠壓、無高溫熱損傷，成品板面平整、厚度均勻、邊緣垂直光滑，無應力形變，可完美適配各類高精度微間隙裝配工況。

0.03不銹鋼墊片采用化學蝕刻工藝一體成型，全程無機械擠壓、無高溫灼燒，板面平整均勻、邊緣垂直光滑、尺寸公差極小，適配各類高精度微間隙裝配工況。

0.02超薄蝕刻墊片采用化學選擇性蝕刻工藝一體成型，摒棄機械外力加工模式，具備厚度均勻、板面平整、無殘余應力、邊緣垂直通透、尺寸精度高的突出優(yōu)勢，完美適配各類精密設備微間隙裝配場景。

0.01超薄蝕刻墊片依托精密化學蝕刻工藝一體成型，憑借厚度均勻、無機械應力、邊緣垂直光滑、平整度極高的核心優(yōu)勢，成為目前超微間隙設備裝配的核心配件。

半導體零部件結(jié)構(gòu)復雜、尺寸精度要求嚴苛、表面潔凈標準極高，傳統(tǒng)機械切削、激光加工工藝易產(chǎn)生機械應力、表面毛刺、高溫氧化、微結(jié)構(gòu)損傷等問題，無法滿足半導體高端制造的無塵、高精度生產(chǎn)要求。

深圳電鑄加工依托電化學金屬離子定向沉積的增材成型原理，全程無機械擠壓、無高溫損傷，可精準復刻微米級復雜結(jié)構(gòu)，成品晶粒致密、平整度高、無殘余應力，是當下微納金屬構(gòu)件精密成型的主流工藝。

東莞黃銅蝕刻加工采用低溫濕法化學選擇性腐蝕工藝，全程無機械擠壓、無高溫損傷，可一體成型超細線路、陣列微孔、異形鏤空、超薄黃銅精密構(gòu)件，成品無應力殘留、尺寸精度高、表面平整光滑，完美適配各類高精度黃銅零部件加工需求。

不銹鋼材質(zhì)耐腐蝕、強度高，但傳統(tǒng)沖壓、激光切割加工薄板不銹鋼易出現(xiàn)拉伸褶皺、邊緣毛刺、高溫氧化、微孔錐度偏大、殘余應力形變等缺陷，難以適配微米級精密裝配、長期酸堿濕熱工況的量產(chǎn)標準。

東莞銅蝕刻廠商依托光化學選擇性低溫蝕刻工藝，全程無機械擠壓、無高溫灼傷，可一體成型細密導電線路、微孔散熱結(jié)構(gòu)、異形屏蔽薄片、微型端子，成型工件無毛刺、無殘余應力、尺寸一致性高，是珠三角銅質(zhì)精密零件主流加工方案。

東莞金屬片蝕刻依托光化學選擇性腐蝕原理，全程無機械接觸、無高溫熱損傷，可一體成型微孔陣列、細密紋路、異形鏤空、超薄金屬片精密結(jié)構(gòu)，成品平整度高、無應力形變、尺寸一致性優(yōu)異，是當前金屬片精密成型的主流先進工藝。